レーザー加工機用XYステージ
精密な位置決めを要求する半導体フォトマスク用ステンシルレーザー加工機用のステージも製作可能です。
フラットタイプのXYステージの他、ガントリー型のXYステージの製作実績があります。
リニアモータとリニアガイドによる駆動機構を採用し、位置決め精度5μm、最高送り速度は20ｍ/minと高速、高精度の位置決めが可能な精密ステージとなっています。
また、各種ワークを固定するための治具設計も承っております。
加工時に発生するレーザー光の漏れ対策についてもご相談下さい。
スペック・仕様
| 名称 | レーザー加工機用XYステージ |
|---|---|
| 機械説明 | 高速かつ精密な位置決めを実現するステージです。 |
| 特徴 | ①高速動作 ②精密位置決め ③長さ等、必要に応じて設計変更可 |
| 寸法 | W 1,540 × D 1,890 × H 250 （フラットタイプ）、W 1,400 × D 1,550 × H 980 （ガントリーAタイプ、架台込み）、W 1,400 × D 1,550 × H 1,430 （ガントリーBタイプ、架台込み） |
| 能力 | テーブルサイズ（mm）： W 450 × D 450 （フラットタイプ） W 150 × D 325 （ガントリーAタイプ） W 278 × D 319 （ガントリーBタイプ） |
